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英特爾完成首臺商用高數(shù)值孔徑EUV光刻機組裝

4月18日,美國芯片公司英特爾宣布,已接收并完成組裝業(yè)界首臺商用高數(shù)值孔徑(High NA)極紫外(EUV)光刻機。據(jù)介紹,這套重達165噸的設(shè)備是ASML與英特爾合作數(shù)十年后開發(fā)的新一代光刻設(shè)備,現(xiàn)位于俄勒岡州的D1X制造工廠,正在進行最后的校準(zhǔn)。

編輯/劉曉茹
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